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公司簡介

商　号 コミヤマエレクトロン株式会社
設　立 昭和58年12月
資本金 10,000,000円
代表取締役 渡辺明雄
従業員 113名
所在地 本社：山梨県南都留郡鳴沢村2278
（本社機能、管理部門、加工・組立設備）
ジラゴンノ工場：山梨県南都留郡鳴沢村8532-313
（技術部、加工・組立設備）


KOMIYAMA　優勢

從開發,設計,製造,客服,至生產工藝指導,提供全面服務
◇ 品質
備有大型無塵室1,000㎡/高10m、最新銳加工設備、提供高品質產品
◇ 價格
根據客製規格、通過海內外採購、削減成本、備有從研發至超大型自社加工機械、提供高性價比設備
◇ 納期
通過長年積累的經驗、在短時間內提供最適宜的設備設計
確保海內外採購途徑、以最短交期,優異價格採購原料
不需外包,以自社加工機械製造各種尺寸設備
使交期為業界最高水準.

核心技術

◇ 薄膜鍍膜設計,工藝
根據薄膜產品的材質,規格,
使用獨自操作軟體進行設計鍍膜,
提供最佳鍍膜方案以及工藝.
◇ 機械設計製造技術
從量産鍍膜的角度考慮,
設計架構簡單,機能穩定,
並簡單操作,簡單維護.

鍍膜質量保證

透明導電膜,彩膜均建議,指導採用以下檢測系統,監測鍍膜過程,保證膜質
◇ 水晶膜厚測試系統
◇ 光學膜厚測試系統
◇ PEM Plasma emission monitor
・在線監測Plasma發生量,與標準工藝數據比較,瞬間調整流量,保持Plasma量的最優化.留取調整數據,提高精度.
◇ 表面電阻測試
◇ 真空計
◇ Mass Flow Controller

Roll To Roll Sputter For ITO FILM

◇ 可以一人獨自操作的
簡易･高速・電容屏用
Roll To Roll ITO 鍍膜設備

設備基本結構


機械寸法3200ｗ×2400ｄ×3200ｈ　使用電力350Ｋｗ/ｈ

基本規格敘述

  1. 真空構造
    鍍膜腔直徑:1m/ 真空度: 4×10-3Pa /真空到達1.52H /基材卷40φ
  2. 高壓電源
    40KW/40KW/30KW DC Pulse *各3台 共九台
  3. 陰極構造
    Nb/Si/ITO各區域3台 單陰極1台30KW/雙倍陰極2台40KW,共9台
  4. 檢查設備
    標準配置PEM/分光測試 /膜厚 /電阻測試,亦可選擇使用
  5. 搬送機構
    使用Web Control手法,滾軸9根,轉速,位置自動追蹤
  6. 溫度
    除後列加熱器10台外,另設Poly Cold 1台(預處理設備另備1台)
  7. 台車
    標準配置1台 可昇降 可容納
    Sheet基材 1600mm 400mmΦ / 芯管：1700L×6inchΦ
  8. 鍍膜控制系統
    以實際鍍膜經驗內部開發系統,容易操作,並開放設計膜質Source,自由度高, 利于客戶掌握鍍膜條件

ITO Film 基本規格(For電容屏)

◇ 用于電容屏的透明導電膜規格
  • 基材寬度 : 1200～1800mm
  • 基材厚度 : 50～188μm
  • 機材直徑 : 70cm
  • 鍍膜速度 : 3m/分
  • 表面電阻 : 150Ω
  • 光透過率 : 500 ～600nm
  • 單面 86% [ PET + Nb2O5 + SiO2 + ITO]
  • ITO有無透過率差 0.5%以下

ITO Roll to Roll Sputter 優勢

◇ 高速鍍膜
採用內部專利技術,遷移領域
高速鍍膜.可確保Nb2O5/SiO2/ITO
各層的鍍膜厚度,品質.
(其他廠商採用同技術生產,但由於對膜質構成,及專利原理的理解不足,通常達不到相同速度)
◇ 單腔體多層膜對應
由於實現高速鍍膜,並設置機構,排除鍍膜區域間氣體流動,可達到在同一真空腔體內,1次性形成不同膜層.
◇ 通過分析放電顏色,維持電漿環境,可持續高速鍍膜,該手法同時保證膜質的高度再現率
◇ 簡易操作
設計結構簡單,可由一人完成
生產維護的90%以上的操作.
包括材料的收放,鍍膜質量監控,靶材更換等.
改變Sputter設備操作複雜的概念.
◇ 簡單維護
本機在設計中將搬送部分與鍍膜部分,分兩層設計,
並在層中設計擋板,防止靶材粉塵落入搬送機構.
鍍膜部分可自動左右開放,便于交換靶材及清理腔體內異物.
各部分零件,螺絲等亦設計保護蓋,便于清潔.
◇ 設備受外界震動影響小
鍍膜質量穩定,採用獨自專利技術,
將基材搬送部分與鍍膜機構
分離設計,保證鍍膜穩定的前提下.
真空腔體可設計的輕薄,降低製造成本.
◇ 搬送機構Web Control
採用Web Control系統,設計變速,
可動搬動軸,避免Film的全面的拉伸,
及局部扭曲.從而避免由于
Film的單側變形而發生的
ITO劃痕等不良.

鍍膜工藝

◇ 透明導電膜的成膜質量主要取決于
  1. 設備的安定搬送系統
  2. 穩定的真空度,氣體流量,溫度控制系統
  3. 高品質基材膜以及靶材.
  4. 鍍膜工藝(預處理以及鍍膜工藝)
  5. 使用上的方便性及維護的簡易性(維持機台的高性能和品質穩定)
本公司在4,5項上有突出優勢,可提供鍍膜工藝,系統管理鍍膜品質,協助客戶掌握工藝,維持品質.具體如:
  • 測試預處理後的膜中水汽含量,提供標準以判斷是否可以繼續鍍膜
  • 鍍膜前的表面清洗工藝
  • 提供膜質監控方法（標準配置電阻測試,選配透過率,膜厚,分光測試系統)
  • 通過分光測試,提供標準及判定方法.判斷鍍膜狀態,
  • 根據膜的寬度設計可動擋板, 保持膜面全體的均一性. 等等…

Coloring Sputter 彩色鍍膜設備

◇ 提供設備製作彩色薄膜
符合電,光學特性
利用獨自開發軟體,
使鍍膜工藝簡單



彩色鍍膜在TP工藝中的應用

◇ 在觸摸屏蓋板玻璃上製作彩膜,減低彩膜厚度,無機彩膜亦可提高OCA膜的粘着,避免層間剝離.

玻璃表面預處理后,
  • 鍍彩色顯示膜,滿足光學色彩,
  • 遮光膜,滿足光學遮光率
  • 真空鍍膜工藝,滿足膜牢固性,
  • 鍍膜整體設計滿足絕緣性
厚度≦2.5μm 利于輕薄化
真空鍍膜膜質牢固,避免剝離
無機材質無經時變化,膜質穩定
配合OCA等其他膜層的貼合

彩色鍍膜工藝例


根據鍍膜對象尺寸,設計治具
2200φ真空腔體,510*400mm治具,
可鍍1260枚/次(120*60mm) /90分鐘
鍍膜過程(全程大約90分鐘)
  1. 玻璃表面處理
  2. 玻璃清洗乾燥
  3. 將玻璃,安裝于治具,推入真空腔
  4. 鍍膜后取出治具,
  5. 將玻璃從治具取下
  6. 清掃治具
  7. 檢查玻璃質量,移入下工程
  8. 鍍膜機清掃


彩膜蝕刻方式



蝕刻方法
  1. 首先在玻璃表面,透明表示部分印刷預處理膜,之後對玻璃整體鍍膜.顏色行程後,在後段進行超聲波清洗.留下周邊彩膜,預處理部分清洗乾淨
  2. 使用通常的曝光蝕刻方式,將透明表示部分顏色除去
  3. 使用治具或雷射方式,也可以進行.但在精度及成本上,不如1,2方式


鍍膜生產過程

  1. 在鍍膜前1至5小時之內進行預處理
    →保證真空中放出的水氣在最小範圍
  2. 將預處理後機材放入台車上,水平轉移至鍍膜機中
  3. 台車固定后,將基材與預留膜貼合,環繞驅動軸后,固定與收卷台車
  4. 進行初期搬送,確認膜的位置,至此完成鍍膜準備
  5. 開始真空排氣　(真空到達約1.5→2小時)
    • 粗排　1×10－2Torr（1.33Pa） 由TMC進行高真空排気
    • 在1×10‐4Torr（1.33×10－2Pa）時,啟動Poly cold 吸收水分⇒高真空化
    • 到達1×3－5Torr（4×10－3Pa）后 放電開始
  6. 真空排氣中,確認鍍膜速度,膜特性.各項數據合格后,完成初期驅動
  7. 開始生產
    自動鍍膜中,定期檢查設備狀態及數據,發現異常後,確認問題,調節放電電壓,氣體等,採取補償措施.

設備主要部件構成


鍍膜技術例

◇ 通過獨自磁鐵排列配合高速鍍膜,雙靶材利與保證膜厚均一

雙靶材 膜厚均勻度
可控制在10%以內
（1200~1800mm）

◇ ITO有無的透過率差,保持在0.5%以下

LIKE 多腔體 ITO Sputter示意圖


18米長 實績機台


鍍膜技術在其他産業上的應用

◇ 各種彩色鍍膜
家電產品・办公機・車輛及住宅內裝用彩膜
◇ 電磁波防止膜
◇ 電磁波防止用表面導電膜（金属或透明導電膜）
◇ 其他光学増透膜・熱線遮断膜