
クリーン・高温環境下にて様々な用途・目的に合わせた真空熱処理サービスを提供します。
・炉内寸:φ1000xD1348mm
・炉床サイズ:最大 900mm
・最高加熱温度:1100℃
・到達圧力:10-5Pa台
目的 | 用途 | |
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・脱ガス処理 | 真空中への各種アウトガス放出低減 水素ガスの放出 二次電子放出低減 のため |
ガラス基板、半導体製造装置部品 真空中に入れる機械加工部品・脱脂 電池材料の乾燥 航空・宇宙関連業界 |
・磁気焼鈍 | 磁気特性向上 地磁気の除去のため |
軟磁性材料(電磁鋼板、ケイ素鋼板、純鉄、パーマロイ等) シールドケース、モータ・センサ等のハウジング 電子顕微鏡のヨーク・ハウジング・ステージ等の構成部品 |
・焼きなまし | 加工性向上、高精度化、高機能化のため (変色のない処理が可能) |
金属材料、工具合金、金型、治具、ばね |
・精密機械分野
・自動車分野
・航空・宇宙分野
・エネルギー分野
・液晶分野
・半導体製造分野
・電気・電子分野
・医療機器分野
・加速器・核融合分野
・研究開発分野
・ナノテクノロジー分野