真空技術の用途

  • 熱を加え、蒸発させて、基板となる物質に個体の被膜を作る方法です。
  • プラズマ中のイオンを材料にぶつけることで薄膜成形をする手法です。
  • 真空雰囲気でワークを数百度まで上げることにより後工程に必要な状態に作り出します。